近日，荷蘭光刻機(jī)巨頭ASML公司宣布，優(yōu)先向Intel公司交付其新型高數(shù)值孔徑（High NA EUV）的極紫外光刻機(jī)。據(jù)悉，每臺(tái)新機(jī)器的成本超過(guò)3億美元，可幫助計(jì)算機(jī)芯片制造商生產(chǎn)更小、更快的半導(dǎo)體。

ASML官方社交媒體賬號(hào)（Facebook）上發(fā)布了一張現(xiàn)場(chǎng)照片。從圖中可以看到，光刻機(jī)的一部分被放在一個(gè)保護(hù)箱中。箱身綁著一圈紅絲帶，正準(zhǔn)備從其位于荷蘭埃因霍溫的總部發(fā)貨。同時(shí)，ASML在評(píng)論中也寫(xiě)道“十年的開(kāi)創(chuàng)性科學(xué)和系統(tǒng)工程值得鞠一躬！我們很高興也很自豪能向英特爾公司交付我們的第一套高NA EUV系統(tǒng)。”

據(jù)了解，高數(shù)值孔徑的極紫外光刻機(jī)組裝起來(lái)比卡車還大，需要被分裝在250個(gè)單獨(dú)的板條箱中進(jìn)行運(yùn)輸，其中包括13個(gè)大型集裝箱。據(jù)估計(jì)，該光刻機(jī)將從2026年或2027年起用于商業(yè)芯片制造。

公開(kāi)資料顯示，NA數(shù)值孔徑是光刻機(jī)光學(xué)系統(tǒng)的重要指標(biāo)，直接決定了光刻的實(shí)際分辨率，以及最高能達(dá)到的工藝節(jié)點(diǎn)。一般來(lái)說(shuō)，金屬間距縮小到30nm以下之后，也就是對(duì)應(yīng)的工藝節(jié)點(diǎn)超越5nm，低數(shù)值孔徑光刻機(jī)的分辨率就不夠了，只能使用EUV雙重曝光或曝光成形(pattern shaping)技術(shù)來(lái)輔助。

這樣不但會(huì)大大增加成本，還會(huì)降低良品率。因此，更高數(shù)值孔徑成為必需。ASML曾在今年9月份曾宣布，將在今年底發(fā)貨第一臺(tái)高數(shù)值孔徑EUV光刻機(jī)，型號(hào)“Twinscan EXE:5000”，可制造2nm工藝乃至更先進(jìn)的芯片。