近日，俄羅斯在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域取得重大突破。莫斯科市長謝爾蓋?索比亞寧宣布，莫斯科 “澤列諾格勒納米技術(shù)中心” 成功研發(fā)出俄羅斯首臺(tái) 350 納米光刻機(jī)，并且該設(shè)備已收獲訂單，同時(shí)，更為先進(jìn)的 130 納米型號(hào)光刻機(jī)也即將上市。這一成果標(biāo)志著俄羅斯在半導(dǎo)體自主生產(chǎn)道路上邁出了堅(jiān)實(shí)的一步。

在俄烏沖突爆發(fā)后，美西方對(duì)俄羅斯實(shí)施了嚴(yán)厲的出口管制措施，半導(dǎo)體芯片及光刻機(jī)等關(guān)鍵半導(dǎo)體設(shè)備成為重點(diǎn)限制對(duì)象。這一外部壓力迫使俄羅斯加快了國產(chǎn)光刻機(jī)的研發(fā)進(jìn)程。早在 2023 年，俄羅斯聯(lián)邦工業(yè)和貿(mào)易部副部長瓦西里?什帕克就曾表示，2024 年俄羅斯將開始生產(chǎn) 350 納米光刻機(jī)，2026 年啟動(dòng)用于生產(chǎn) 130 納米制程芯片的光刻機(jī)。如今，這一計(jì)劃正穩(wěn)步推進(jìn)。

莫斯科 “澤列諾格勒納米技術(shù)中心” 公司總經(jīng)理阿納托利?科瓦列夫透露，該公司已按照國家合同完成了俄羅斯首臺(tái) 350 納米拓?fù)浣Y(jié)構(gòu)的投影式光刻機(jī)的研發(fā)工作。這一項(xiàng)目是與白俄羅斯 “Planar” 工廠合作實(shí)施完成的。在 2024 年 12 月測試成功后，該光刻機(jī)獲得了國家委員會(huì)的認(rèn)可，并記錄了所有申報(bào)的技術(shù)特征。目前，已有客戶購買了這一設(shè)備，現(xiàn)在設(shè)備的工藝流程正根據(jù)最終用戶對(duì)生產(chǎn)的特殊要求進(jìn)行調(diào)整。

俄羅斯的這臺(tái) 350 納米光刻機(jī)在技術(shù)上有其獨(dú)特之處。與國外類似設(shè)備不同，它首次使用固體激光器來作為輻射裝置，而不是傳統(tǒng)的汞燈。固體激光器具有功率大、能效高、耐用性強(qiáng)、光譜更窄等優(yōu)勢，為芯片制造提供了更穩(wěn)定、高效的光源。此外，該光刻機(jī)的工作區(qū)域面積顯著增加，達(dá)到了 22×22 毫米，可加工最大直徑為 200 毫米的晶圓，能夠滿足汽車、能源、通信等多個(gè)行業(yè)的芯片制造需求。

目前，“澤列諾格勒納米技術(shù)中心” 已做好了批量生產(chǎn)這款 350 納米光刻機(jī)的準(zhǔn)備。與此同時(shí)，該中心正在按第二份國家合同繼續(xù)開展 130 納米光刻機(jī)的研發(fā)工作，預(yù)計(jì)于 2026 年完成。130 納米光刻機(jī)的研發(fā)成功，將進(jìn)一步提升俄羅斯在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域的技術(shù)水平，擴(kuò)大其在芯片生產(chǎn)方面的自主能力。

光刻機(jī)作為半導(dǎo)體生產(chǎn)的核心設(shè)備，其技術(shù)難度極高。當(dāng)前，全球僅有荷蘭 ASML、日本尼康和佳能、中國的上海微電子等少數(shù)幾家公司能夠生產(chǎn)光刻機(jī)，而能夠生產(chǎn)先進(jìn)制程光刻機(jī)的更是屈指可數(shù)。盡管 350 納米制程在全球范圍內(nèi)屬于較為成熟的技術(shù)，但對(duì)于俄羅斯來說，掌握這一技術(shù)并實(shí)現(xiàn)設(shè)備的國產(chǎn)化，具有重要的戰(zhàn)略意義。它不僅能夠滿足國內(nèi)部分行業(yè)對(duì)芯片的需求，減少對(duì)進(jìn)口芯片的依賴，還為俄羅斯半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的進(jìn)一步發(fā)展奠定了基礎(chǔ)。隨著 130 納米型號(hào)光刻機(jī)即將上市，俄羅斯有望在半導(dǎo)體自主生產(chǎn)的道路上取得更大的進(jìn)展，逐步提升其在全球半導(dǎo)體領(lǐng)域的地位。